Présentation des produits
1. La cible de tantale est du tantale de haute pureté avec un diamètre allant de 200 à 1000 mm pour la cible de vide de pulvérisation.
2. Informations de base
Nuance : RO5200
Type : cible carrée, cible ronde et cible de forme spéciale-
Matériau cible de pulvérisation de tantale : cible métallique, cible en alliage, cible en composé céramique
Composition chimique du tantale
| Grade | éléments principaux | Impureté Inférieur ou égal à pourcentage | |||||||||||
| Ta | Nb | Fe | Si | Ni | W | mois | Ti | Nb | O | C | H | N | |
| Ta1 | rester | - | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.002 | 0.05 | 0.015 | 0.01 | 0.002 | 0.005 |
| Ta2 | rester | - | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.04 | 0.02 | 0.005 | 0.1 | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.025 |
Le détail montre
cible de pulvérisation de tantale
cible ronde en tantale
3. Cible métallique :
Cible nickel, cible titane, cible magnésium, cible niobium, cible étain, cible aluminium, cible indium, cible fer, cible aluminium zirconium, cible aluminium titane, cible zirconium, cible aluminium-silicium, cible silicium, cible cuivre, cible en tantale, cible en germanium, cible en argent, cible en or, cible en gadolinium, cible en lanthane, cible en yttrium, cible en cérium, cible en tungstène, cible en acier inoxydable, cible en nickel-cible en chrome, cible en hafnium, cible en molybdène, fer{{2 }} cible de nickel, cible de pulvérisation de tungstène métallique, etc.
4. La cible de tantale est principalement utilisée dans l'industrie de l'information électronique, telle que les circuits intégrés, les écrans à cristaux liquides, le stockage laser, le stockage d'informations, les dispositifs de contrôle électroniques, etc. il peut également être utilisé dans le domaine du revêtement du verre ; il peut également être utilisé dans les matériaux résistants à l'usure-, aux hautes températures et à la résistance à la corrosion, ainsi que dans les produits de décoration haut de gamme- et d'autres industries.
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